TaC Coated Deflector Nplhaib

Semixlab's TaC Coated Deflector Ring yog ib qho khoom siv tswj kev ua qias tuaj thiab kev tswj cua uas tsim los rau cov txheej txheem semiconductor epitaxy thiab CVD. Hauv cov chaw no, kev sib npaug ntawm wafer, kev ruaj khov ntawm cov tshuaj lom neeg hauv chav, thiab kev ruaj khov ntawm cov khoom siv ncaj qha txiav txim siab qhov tsim khoom thiab lub sijhawm ua haujlwm ntawm cov khoom siv. Muab tso rau ntawm qhov chaw wafer periphery lossis ciam teb substrate, lub nplhaib deflector no ua haujlwm ua lub cuab yeej tseem ceeb rau kev hloov pauv roj thaum lub sijhawm Si, SiC, thiab GaN epitaxial loj hlob, ua rau muaj kev tswj hwm meej ntawm kev faib tawm reactant precursor thiab wafer nto thermal teb sib npaug.

Hauv cov chav kub epitaxial, qhov twg hydrogen, chlorine-muaj cov roj, hydrocarbons, thiab ammonia teb ntawm qhov kub thiab txias ze lossis tshaj 1500 ° C, qhov kev ua tiav ntawm cov khoom siv chamber ua rau muaj qhov tseem ceeb hauv kev txiav txim siab zoo ntawm cov zaj duab xis nyias. Tantalum carbide (TaC), nrog nws qhov chaw yaj siab heev ntawm kwv yees li 3880 ° C thiab kev tiv thaiv tshuaj lom neeg zoo heev, muab kev tiv thaiv ruaj khov tiv thaiv kev puas tsuaj ntawm cov khoom siv, kev tawg ntawm qhov chaw, lossis kev ua qias tuaj ntawm cov hlau, yog li tswj hwm qhov chaw tso khoom tswj hwm dhau lub voj voog ntau lawm.

Los ntawm nws txoj kev hloov pauv ntawm huab cua, TaC Coated Deflector Ring ua rau cov txheej txheem ciam teb ntawm cov pa roj reactive ruaj khov, txo cov kev hloov pauv ntawm ntug, txwv tsis pub cov zaj duab xis ntau txheej sib sau ua ke, thiab tiv thaiv cov wafer los ntawm cov khoom me me uas los ntawm phab ntsa chamber lossis cov khoom siv kho vajtse hnav. Qhov kev ruaj khov ntawm qhov ceev ntawm huab cua no yog qhov tseem ceeb rau kev txo qis cov teeb meem epitaxial xws li basal plane dislocations, stacking faults, pitting, thiab zaj duab xis ntug tsis sib xws.

Hauv CVD thiab ALD cov txheej txheem modules, kev raug ntau zaus rau cov khoom ua ntej corrosive thiab plasma-enhanced ib puag ncig tuaj yeem ua rau xeb ntawm cov khoom tsis kho chamber, thaum lub TaC coated nto ua haujlwm ua lub tiv thaiv inert tshuaj, tswj chamber huv, txo qhov zaus txij nkawm, thiab txo tag nrho cov nqi ntawm kev muaj rau cov nroj tsuag wafer ntau. Lub microstructure ntom thiab qis-porosity ntawm cov txheej txo cov khoom me me thiab tiv thaiv thermal shock-induced crystal cracking, ua rau kev ua haujlwm txuas ntxiv yam tsis muaj kev cuam tshuam rau chamber kev ncaj ncees lossis wafer huv.

Cov nplhaib sib txuas Semixlab TaC yog tsim tawm raws li cov qauv kev nplaum thiab kev ntsuas qhov ntsuas kom ntseeg tau tias muaj zog nplaum zoo, tuab sib xws, thiab kev sib raug zoo ntawm ntau lub tshuab cua sov epitaxial thiab nyias zaj duab xis. Los ntawm kev sib txuas cov khoom siv ua haujlwm, kev tsim roj ntws, thiab kev tsim qauv kev ntseeg siab, Semixlab TaC coated deflection ring assemblies tau dhau los ua lub hauv paus tseem ceeb hauv kev ua tiav kev ua haujlwm ntev, cov wafer siab, thiab kev ua haujlwm ruaj khov hauv kev tsim khoom semiconductor tiam tom ntej. Peb tos ntsoov yuav los ua koj tus khub ntev hauv Suav teb.