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Silicon dioxide, feem ntau hu ua SiO₂, yog ib yam khoom siv tseem ceeb uas siv los tsim cov khoom siv me me. Ntawm Semixlab, peb ua cov silicon wafer nrog cov qauv ntxaws ntxaws, siv cov txheej txheem hu ua sio2 qhuav etching g. Yog li txoj kev no ua haujlwm li cas?
SiO₂ qhuav etching yog hais txog cov txheej txheem ntawm etching silicon dioxide rau ntawm silicon wafer siv cov tshuaj tshwj xeeb thiab plasma. Lub zog kuj tseem ntxiv rau plasma, uas yog ib hom roj. Los ntawm plasma, peb tuaj yeem tshem tawm SiO₂ txheej yam tsis ua rau nws cov txheej hauv qab puas tsuaj.
Yog tias peb xav tau sio2 qhuav etching Yuav kom ua tau zoo dua, peb yuav tsum teeb tsa qee yam xws li cov roj ntws, siab, thiab lub zog sib txawv. Los ntawm kev kho cov chaw no, peb tuaj yeem tswj tau tias peb tuaj yeem ua kom sai npaum li cas thiab peb tuaj yeem ua kom zoo li cas tsuas yog Semixlab SiO₂. Qhov no yog qhov tseem ceeb, vim peb xav ua kom SiO₂ tsis txhob kov lwm yam khoom siv ntawm lub wafer.
Muaj ntau txoj hauv kev los ua Semixlab SiO₂ qhuav etching. Ib qho ntawm cov txheej txheem feem ntau yog reactive ion etching (RIE), siv cov roj sib xyaw rau SiO₂ txheej. kev txiav plasma Hauv lwm txoj kev, cov txheej txheem etching tob tob (DRIE) siv los muab cov etches tob hauv SiO₂ txheej hauv ntau kauj ruam.
Ib qho teeb meem hauv SiO₂ qhuav etching yog kom tsis txhob tshem tawm lwm yam tshaj li Semixlab kev txiav ntub dej SiO₂. Yuav kom kov yeej qhov no, lub npog ntsej muag tuaj yeem siv rau kev tiv thaiv lwm cov ntaub ntawv tiv thaiv kev khawb. Lwm qhov kev sib tw yog xyuas kom meej tias kev khawb yog sib xws thoob plaws hauv lub wafer. Peb tuaj yeem daws qhov teeb meem no los ntawm kev kho peb cov iav thiab chaw.
Qhov Semixlab SiO2 qhuav etching no yog ua los tsim cov khoom tseem ceeb xws li trenches thiab kev sib txuas ntawm silicon substrates. Cov khoom no yog qhov tseem ceeb rau kev tsim cov khoom xws li integrated circuits thiab sensors. Peb tuaj yeem ua cov qauv nyuaj heev nrog sio2 qhuav etching
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